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在半导体与光伏行业中，臭氧被广泛应用于晶圆清洗。它能有效氧化水相中的有机污染物和金属杂质。
近年来，市场对高性能芯片的需求呈指数级增长。众所周知，芯片的生产离不开晶圆。由于硅片极为敏感，其制造过程必须遵循极高的质量标准，采用超洁净的生产工艺。
为了提升晶圆的质量，必须对其表面进行彻底清洗。目前，业界通常使用化学溶液来进行表面清洁。然而，事实证明，这些传统清洗方法不仅效率低下，而且对环境极不友好。相比之下，在生产过程中引入臭氧，已被证实是替代传统方法的最佳方案。除了能减少化学试剂的消耗并降低相关成本外，臭氧技术还能显著提升工艺性能。
臭氧在半导体和光伏行业中的应用
Anseros臭氧系统运行高效且成本低廉，能够大幅减少（甚至替代）对化学试剂的依赖。
在半导体行业中，臭氧的应用主要包括但不限于：
湿法清洗 (Wet cleaning)
TEOS
化学气相沉积 (CVD)
干法清洗 (Dry cleaning)
疏水处理 (Hydrophobics)
ANSEROS SC 系列产品及半定制解决方案的优势
总拥有成本 (TOC)：有效降低设备的整体生命周期成本。
符合 DIN 19627 标准：臭氧发生系统严格遵循 DIN 19627 行业规范。
无金属臭氧生产：采用石英玻璃模块，确保产出的臭氧完全不含金属颗粒。
无气泡臭氧发生技术：采用平板放电技术，实现无气泡的臭氧生成。
耐腐蚀与免维护：臭氧发生器具备防腐蚀特性，臭氧测量设备实现免维护。
稳定可靠与长寿命：支持全天候（日夜）无故障运行，产品使用寿命长。
高精度与高节能：采用创新的 UVL 技术，NDUV 测量技术兼具高精度与高能效。
不锈钢材质组件：核心部件采用优质不锈钢材料。
PFA 材质组件：关键接触部件采用 PFA（全氟烷氧基树脂）材料，确保超洁净。
西门子 PLC 智能控制：配备西门子 PLC 控制系统、触摸屏及多语言选择功能。
全数字化设计：臭氧分析仪与发生器均配备数字接口和数字显示屏。
安全实时监控：配备快速响应的臭氧监测仪及报警模块，确保持续、安全的臭氧监控。
认证品质：设备均通过 CE 认证，品质有保障。
环保合规：符合 RoHS 及 REACH 环保标准。
为什么选择ANSEROS臭氧产品与解决方案?
行业先驱：在臭氧技术领域拥有 40 年的深厚经验。
一体化解决方案：提供单一来源的臭氧系统，确保设备内外通讯完美兼容。
广泛的工艺适用性：支持在去离子水（DI）和反渗透水（RO）中进行高浓度臭氧应用，同时适用于酸性及湿法化学工艺。
减少化学品依赖：臭氧系统可大幅减少（甚至替代）对化学试剂的使用。
专属工程服务：提供由 ANSEROS 工程团队主导的专业咨询与规划服务。
权威行业协会成员：是国际臭氧协会（IOA）、臭氧质量委员会、FIGAWA 以及 DVGW 的会员单位。
官方科研认证：获得 AiF 工业研究协会（AiF Industrieforschung）的认证。
全球化市场认可：业务遍及 40 个国家，拥有超过 1000 家客户，出口额占总销售额的 70%。
全球服务网络：拥有遍布全球的分销网络及世界级的售后服务支持。
德国精工品质：所有产品均在德国本土制造并经过严格测试。
ANSEROS Engineering：用于晶圆处理的去离子水（DI）系统
在您的生产线中启动氧化、杀菌与消毒工艺
借助臭氧技术，清洗及湿法清洗过程中产生的特定物质可被完全溶解。水中的高浓度臭氧能够有效氧化有机及金属污染物，从而避免晶圆表面出现任何残留。
此外，臭氧技术目前也已应用于固态无机物的处理。例如，臭氧可用于去除光刻胶涂层以及实现硅的氧化。另一方面，在去离子水处理过程中，臭氧消毒被广泛用于抑制微生物的滋生。
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